MEMBRANE SOLUTIONS FOR ALL OF YOUR WATER AND PROCESS NEEDS

Elektronik-Anwendungen

Halbleiter-Spülwasser

Hochreines Wasser (HPW), Reinstwasser oder ultrareines Wasser sind für verschiedene Anwendungen wie Dialyse, Pharmazie und Elektronik erforderlich. Hochreines Wasser ist ein häufig verwendeter Begriff, um die Tatsache zu betonen, dass das Wasser auf den höchsten Reinheitsgrad behandelt wird, einschließlich der Entfernung von: organischen und anorganischen Verbindungen, gelösten und partikulären Stoffen, flüchtigen und nicht flüchtigen, reaktiven und inerten, hydrophilen und hydrophoben und gelösten Gasen.

In Anlagen zur Herstellung von Elektronik und Halbleitern wird hochreines Wasser als Reinigungsmittel und für Ätzprozesse verwendet. Daher ist es wichtig, dass das Wasser keine gelösten Verunreinigungen enthält, die ausfallen können oder Partikel, die sich auf den Schaltkreisen ansammeln und Mikrochipfehler verursachen können. Mehrere Organisationen und Gruppen entwickeln und veröffentlichen Standards für die Herstellung von hochreinem Wasser. Die am weitesten verbreiteten Anforderungen an die Qualität von hochreinem Wasser für die Elektronik- und Halbleiterherstellung werden von der American Society for Testing and Materials International (ASTM International) und Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI) dokumentiert.

Eine Reihe fortschrittlicher Wasseraufbereitungstechnologien wird zur Aufbereitung von hochreinem Wasser eingesetzt, darunter Umkehrosmose (RO), Ionenaustausch (IX), Elektroentionisierung (EDI) und weitere Polierverfahren wie Ultrafiltration (UF), fortschrittliche Oxidation und Ultraviolett (UV) Sterilisation und Entgasung. RO, IX und EDI werden typischerweise zum Entfernen gelöster Feststoffe (TDS) verwendet, während UF typischerweise als Polierschritt zum Entfernen von Partikeln und Bakterien verwendet wird. Die Reduktionswerte für eine Membran mit einem Molekulargewichts-Cut-Off (MWCO) von 10.000 Dalton (Da) sind in Tabelle 1 zusammengefasst.

HOCHREINE MEMBRANELEMENTE

TurboClean® Hochreine Elemente und durch Hitze desinfizierbare TurboClean® Hochreine Elemente sind ideal für Anwendungen, die ultrareines Wasser erfordern, wie z. B. Dialyse-, Pharma- und Halbleiterspülwasser. TurboClean-Elemente zeichnen sich durch eine einzigartige, patentierte Hartschalenkonstruktion aus, die ein besseres Preis-Leistungs-Verhältnis bietet als andere Sanitärelemente.

TurboClean® Hochreine RO-Elemente, TurboClean® Hochreine Niedrigenergie-RO-Elemente und TurboClean® Low-Fouling-RO-Elemente können zur Herstellung von hochreinem Wasser verwendet werden.

TurboClean® Hochreine, durch Hitze desinfizierbare RO-Elemente können auch zur Herstellung von hochreinem Wasser verwendet werden. Diese Elemente werden typischerweise bei Temperaturen zwischen 10-15 °C (50-59 °F) betrieben und mit einem Hitze-Sanitisierungsverfahren bei bis zu 80-90 °C (176-194 °F) desinfiziert.

TurboClean® Hochreine UF-Elemente und TurboClean® hochreine UF-Elemente, die durch Hitze desinfiziert werden können können nach dem RO-System verwendet werden, um das Wasser weiter zu polieren.

ULTRADYN™ Hohlfaser-UF-Module, insbesondere ULTRADYN™ FS10 FS FUST653 und ULTRADYN™ FS10 FC FUST653 module, können auch nach dem RO-System verwendet werden, um das Wasser weiter zu polieren. Die Module mit einem MWCO von 6.000 Da und 10.000 Da werden am häufigsten für Reinstwasseranwendungen eingesetzt. Diese Module sind auch durch Hitze desinfizierbar bis 98 °C (208 °F).

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